- ПРЕИМУЩЕСТВА:
RS-2000 WDM— двухкомпонентная жидкая паяльная маска предназначенная для сеткографической печати. Она обладает широким технологическим окном, отличной термостойкостью / стойкостью к скалыванию, отличной адгезией, отличной химической стойкостью. Паяльная маска одобрена конечными пользователями в области автомобильной промышленности.
— Разработан для автомобильной промышленности
— Сеткографическая печать
— Цвет – белый матовый
— Высокая фоточувствительность
— Отличная адгезия
— Отличная термостойкость
— Отличная химическая стойкость
— Совместимость с процессами иммерсионного золочения и оловянирования
— Совместимость с бессвинцовыми процессами
— Не содержит галогены
— Соответствует директиве RoHS
— Соответствует TS16949
— Широко одобрен конечными пользователями в области автомобильной промышленности
2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Пункт | Значение спецификации | Примечание |
Основной компонент | RS-2000 WDM | Белый (Матовый) |
Отвердитель | RS-2000A6 | Серовато-белый |
Цвет | Основной компонент: белый
Отвердитель: белый |
В смешанном виде – Белый матовый |
Смешивание | Основной компонент/ Отвердитель — 75/25 | Весовое соотношение |
Вязкость
(в смешанном виде) |
180±30 дПа*с (25°С) | Вискозиметр VT-04F |
Содержание твердых веществ | 75~78 вес% | После смешивания |
Удельный вес | 1,3±0,2 | После смешивания |
Предварительное отверждение | (70-75)°С х (35-50) минут | Конвекционный шкаф |
Энергия экспонирования | 400~600 мДж/см2
(на поверхности маски) |
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера |
Окончательное отверждение | 150-160°С х 60 минут | Конвекционный шкаф |
Время жизни после смешивания | 24 часа | Максимально 24 часа при 25 °С в темном помещении |
3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка -> Щеточная зачистка -> Промывка водой -> Сушка
Смешивание:
Перемешивать 10-15 минут
Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в темном помещении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в течение 10-20 минут.
Параметры нанесения:
Сетка: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 минут
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 — 20 минут при 70 — 75°C
Сторона 2 20 — 30 минут при 70 — 75°C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
35 — 50 минут при 70 — 75°C
Экспонирование:
Энергия экспонирования: 400~600 мДж/см2 (на поверхности маски)
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера (21 ступень)
Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32°C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25°C~28°C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При отсутствии заполненных отверстий: 150-160°С х 60 минут (конвекционный шкаф)
При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трехстадийное отверждение в конвекционном шкафу)
4. ХАРАКТЕРИСТИКИ ПАЯЛЬНОЙ МАСКИ
4.1. Влияние параметров предварительной сушки
Температура предварительной сушки, °C | 72 | 72 | 72 | 72 | 72 |
Время предварительной сушки, минут | 30 | 40 | 50 | 60 | 70 |
Эффект | Не влияет | Не влияет | Не влияет | Не влияет | Отрицательное
воздействие |
4.2. Чувствительность
Пункт | Толщина слоя | Энергия экспонирования | Время проявления | Ступень клина Штоуффера |
21 ступенчатый клин Штоуффера | 25 мкм | 400 мДж/см2 | 60 секунд | 8-10 |
500 мДж/см2 | 9-11 | |||
600 мДж/см2 | 10-12 |
5. СВОЙСТВА ОТВЕРЖДЕННОГО СЛОЯ
Пункт | Экспериментальный метод | Результат |
Адгезия | Метод решетчатых надрезов | 100/100 |
Твёрдость по абразивному карандашу | Эксперимент с карандашом твердостью 6H | Выше 6H |
Стойкость к припою | 260 °C / 10 сек/3 раза | Нет шелушения |
Стойкость к кислотам | Выдержка 20 минут в 10% (по объему) H2SO4 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
Стойкость к щелочам | Выдержка 20 минут в 10% (по объему) NaOH 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
Стойкость к растворителям | Выдержка 20 минут при 25 °C в ацетат монометилового эфира пропиленгликоля | Пройдено |
Сопротивление изоляции | Тестовая структура B платы IPC-B-25 Минимум 5х 108 Ом при постоянном
напряжении 500 Вольт |
Перед лужением:
1,0 х 1012 Ом
|
Устойчивость в иммерсионном золоте | Ni: 125 мкм Au:3 мкм | Пройдено |