Назначение и область применения
Установки MIVA2050L-DI и MIVA2025L-DI относятся к классу промышленных устройств, предназначенных для формирования топологии проводников печатной платы непосредственно на фоторезисте и защитной паяльной маске, нанесённых на заготовку печатной платы.
Краткая характеристика
Конструкция построена на гранитном основании, обеспечивающем стабильное позиционирование фотоголовок и высокую точность получаемого рисунка. Установка оснащена датчиками линейного перемещения Renishaw (TONIC/RELM/IN—TRACTM) — с инваровой линейкой по оси Х и «золотыми» линейками по оси Y (два датчика) с разрешением 0,1 мкм и системой обратной связи для управления линейными моторами TECNOTION.
Оптическая головка представляет собой специальный проекционный модуль (тип LLS, VISITECH AS.), который включает в себя быстродействующу
Программное обеспечение установки прямого экспонирования, обеспечивающее управление установкой с компьютера, подключенного в одну локальную сеть с ней, совместимо с ОС Windows 7.
Установка оснащена одной экспонирующей головкой модульной конструкции.
Установка может быть модернизирована путем добавления второй фотоголовки.
Использование установок MIVA2050L-DI и MIVA2025L-DI является оптимальным решением для выпуска мелких и средних серий печатных плат
Применение установки позволяет исключить из технологической цепочки процессы:
- изготовления фотошаблонов;
- базирования фотошаблонов;
- совмещения фотошаблонов и заготовки;
- экспонирования.
Соответственно — экономия материалов, площадей (за счет исключения отдельных позиций оборудования), а также сокращение технологического цикла изготовления печатных плат.
Средняя производительнос
до 240 заготовок внутренних слоёв размером 305х457 мм в смену.
Отличительные особенности
Основные узлы и механизмы установки смонтированы на массивном гранитном основании, предназначенном для компенсации механических моментов при движении осей и для температурной стабилизации параметров движения.
Установка оснащена фотоголовкой тип LLS серии LUXBEAM Lithography System in real time (далее LLS-RLT), имеющей быстродействующу
Блок осветителя состоит из четырёх источников света типа LED с различными длинами волн
(диапазон засветки 350÷420 нм) – за счет этого существенно увеличилась мощность экспонирования и качество края рисунка.
Интерфейс с увеличенной пропускной способностью и новая версия системы управления DMD-матрицей LUXBEAM 4700 DLP позволили передавать и обрабатывать поток данных в реальном режиме времени со скоростью до 10 Гб/с.
Интегрированная система очистки
Установка имеет встроенную систему вентиляторов с блоком HEPA-фильтров в верхней части корпуса и герметичной дверью, что снижает требования к чистоте рабочего помещения в целом.
Низкое энергопотреблени
У системы очень низкие требования по энергопотреблени
Компактная оптическая система
Компактность специально разработанной проекционной оптической системы и системы охлаждения способствует минимизации термических эффектов, возникающих при нагревании электронных и оптических компонентов.
Технические характеристики |
MIVA2050L-DI |
MIVA2025L-DI |
|
|
635 х 710 |
||
|
560 х 650 |
||
|
0,05 – 11,0 |
||
Время экспонирования одной стороны платы 305х457мм (resist@10 mJ/cm2), сек |
15 |
24 |
|
Время экспонирования одной стороны платы 305х457мм (resist@50 mJ/cm2), сек |
45 |
60 |
|
Время выравнивания по четырем меткам, сек. |
15 |
||
Максимальная скорость перемещения, мм/cек. |
800 |
||
Количество источников света в каждом модуле |
4 |
||
Тип источников |
HighPower UV LED: 365, 385, 395 и 405 нм |
||
Максимальное разрешение рисунка, dpi/ мкм |
7 050/ 3,6 |
14 100/ 1,8 |
|
Глубина фокуса (DoF), мкм |
± 200 |
± 100 |
|
Ширина области засветки на рабочей поверхности, мм |
41,4 |
20,7 |
|
Точность рисунка по всей рабочей зоне: |
|||
|
± 8 |
||
|
± 5 |
||
|
± 4 |
± 2,5 |
|
|
4 |
2,5 |
|
Минимальный размер структур (проводник/зазор), мкм |
50 / 50 |
25 / 25 |
|
Разрешение системы позиционирования |
0,1 |
||
Точность системы позиционирования |
± 1 |
||
Точность совмещения сторон (3σ), мкм |
12,5 |
||
Загрузка/ разгрузка |
Ручная |
||
Наличие автофокуса |
Да |
||
Габариты (Ш х Г х В) / Масса |
1450 х 1220 х 1750 мм / 790 кг |
||
Время жизни источника излучения |
Не менее 40 000 часов |
||
Вакуумный насос и чиллер |
Входят в комплект |
||
Форматы данных |
Gerber RS274-X, Gerber X2 |
||
Модернизация системы по требованию заказчика |
Да |
||
Метод крепления заготовок |
Прижимы механические – 4 шт.; Вакуумный зонированный стол (8 зон). |
||
Требование к помещению |
класс чистоты: не хуже ИСО7; температура: +(20 ÷22) °С, отн.влажность: 40 ÷ 60% |