Экспонирование

Установка экспонирования
с системой автоматического совмещения E2100-7KAD,
Chime-Ball Technology Co. / CBT, (Тайвань)

 

exposure

Назначение и область применения:

Установка экспонирования серии E2100-7KAD предназначена для применения в производстве печатных плат 5 класса и выше при экспонировании фоторезистов и защитной паяльной маски.

Отличительные особенности

  • Установка оснащена специальными высокоэнергетичными УФ лампами с трехступенчатой регулировкой мощности.
  • Используется автоматическое совмещение фотошаблонов и заготовки при помощи системы из четырех CCD камер.
  • Установка оснащена двумя рамками экспонирования. Рамки могут быть изготовлены на разные размеры заготовок по заданным Заказчиком размерам.
  • В качестве мишеней используются реперные метки на фотошаблонах и отверстия в печатных платах.
  • Установка управляется при помощи компьютера с сенсорным экраном.
  • Установка предназначена для производства печатных плат 5-го класса точности и выше.
  • Установка снабжена оптическим защитным барьером, останавливающим движение рамы при нахождении рук оператора в зоне загрузки.

Принцип работы

Применение в данной установке источника энергии экспонирования типа «квазиточечный источник» позволяет получить разрешение токопроводящего рисунка печатной платы проводник-зазор 0,075/0,075мм.

В составе установки имеется выполненное на базе CCD телекамер и компьютера устройство автоматического совмещения фотошаблонов и заготовки. Работа встроенной системы совмещения основана на известном принципе совмещения по мишеням, внесённым в технологическое поле фотошаблона.

Применение данного способа совмещения позволяет отказаться от пробивки базовых отверстий в фотошаблонах, а, следовательно, исключить из техпроцесса установку пробивки базовых отверстий и связанную с этой операцией потерю точности совмещения.

Четырехкамерная система для каждой рамки позволяет в достаточной степени компенсировать ошибки системы совмещения, возникшие на предыдущих этапах изготовления печатной платы, и достичь фактической точности совмещения фотошаблон/заготовка 12,5 мкм, даже при наличии ошибок системы совмещения, возникших на предыдущих этапах изготовления печатной платы. При этом влияние ошибки предыдущих технологических операций, в том числе ошибки фотоплоттера и сверлильного станка при выполнении реперных меток, снижается до 70%.

В установках экспонирования используются две металлогалогенные лампы USHIO мощностью 7кВт, обеспечивающие спектральный диапазон излучения, совместимый с большинством материалов фоторезистов и защитных паяльных масок. Лампы обеспечивают оптимальную энергию для экспозиции большинства пленок и фоторезистов. Высокая эффективность преобразования электрической энергии в эффективную длину волны обеспечивает исключительно малое время экспозиции при значительной экономии электроэнергии. Установка позволяет получить в плоскости заготовки удельную мощность 40мВт/см2.

Установка имеет три уровня интенсивности излучения: низкая (3кВт), средняя (5кВт) и высокая (7кВт). Режим средней интенсивности идеально подходит для экспонирования стандартных фоторезистов. Режим низкой интенсивности дает возможность производить более точную настройку экспонирования для высокочувствительных резистов, требующих короткого времени экспонирования. Режим высокой интенсивности предназначен для экспонирования сухой пленочной паяльной маски.

Среднее время наработки ламп до 800 часов.

У машины есть две рамы экспонирования, что позволяет оператору экспонировать обе стороны заготовки в одной раме, в то время как происходит загрузка другой рамы. По завершении процесса загрузки очередной платы рамы автоматически меняются местами и рама, находящаяся в переднем положении, открывается.

В установке поддерживается режим одностороннего экспонирования.

Установка подходит для использования установки в «чистых комнатах». Также в комплекте с установкой поставляется станция подготовки оборотной холодной воды для создания замкнутой системы водоциркуляции установка-теплообменник. Температура внутри установки регулируется с точностью до ±2°С.

Управление установкой осуществляется с компьютера на базе Windows с сенсорным экраном. Существует возможность сохранения в памяти до трехсот заданных программ экспонирования.

Поставка, пуско-наладка и обслуживание производятся квалифицированными сервисными инженерами, прошедшими специальное обучение на фирме-производителе.

В качестве базовых отверстий для совмещения заготовки с фотошаблонами используются специально просверленные для этой цели отверстия, которые для увеличения точности расположены по углам заготовки. Для сверления базовых отверстий рекомендуется использовать инструмент с небольшим износом.

Использование в качестве базовых отверстий  переходных отверстий, технологических, крепёжных и прочих не рекомендуется, поскольку они, как правило, располагаются на укороченной базе, что может привести к ошибкам совмещения, и, как итог, к браку.

 

Основные технические характеристики

Габаритные размеры

Длина 2750 мм
Ширина 1330 мм
Высота 2000 мм

Экспонирование

Максимальный размер заготовки 559 x 635 мм
Минимальный размер заготовки 254 х 305 мм
Толщина заготовки 0,1 – 3,2 мм

 

Электрические характеристики

Тип питания 3ф, 380В±5%, 50Гц, +нейтраль +заземление
Потребляемая мощность 40 кВт + 7,5 кВт (чиллер)
Мощность каждой лампыс переключением, до 7 кВт (3 кВт, 5 кВт, 7 кВт)

Система охлаждения

Расход воды 60 л/мин
Температура воды на входе 7~12°С
Охлаждающая вода — чистая, без загрязнений.

 

Сжатый воздух

Давление сжатого воздуха не более 6 кг/см2
Потребление сжатого воздуха не более 200 нл/мин