- ПРЕИМУЩЕСТВА:
RS-2000 8GLDI — двухкомпонентная жидкая сеткографическая паяльная маска с низкой энергией экспонирования, специально разработанная для применения на установках прямого экспонирования. Благодаря широкому технологическому окну данная маска очень удобна в работе. Жидкую паяльную маску RS-2000 8GLDI можно экспонировать с помощью лазерного источника (LDI) или оборудования для экспонирования с помощью диодов (DI) с одиночной длиной волны 405 нм или комбинированными длинами волн 365 нм / 385 нм / 405 мм. Данная маска обладает хорошей устойчивостью к иммерсионным процессам, таким как ENIG и иммерсионное олово, сохраняя при этом ширину линии 50 мкм и более. Также RS-2000 8GLDI очень хорошо вымывается из небольших отверстий.
— Сеткографическая печать
— Возможность использования оборудования прямого экспонирования
— Высокое разрешение
— Широкое технологическое окно
— Совместимость с процессами иммерсионного золочения и оловянирования
— Соответствует директиве RoHS
— Соответствует или превосходит спецификации IPC SM 840-E
2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| Пункт | Значение спецификации | Примечание |
| Основной компонент | RS-2000 8GLDI | Зелёный |
| Отвердитель | RS-2000A6 | Серовато-белый |
| Цвет | Основной компонент: зелёный
Отвердитель: белый |
В смешанном виде ‒ зелёный |
| Смешивание | Основной компонент/ Отвердитель ‒ 75/25 | Весовое соотношение |
| Вязкость
(в смешанном виде) |
180±30 дПа*с (25°С) | Вискозиметр VT-04F |
| Содержание твердых веществ | 75~78 вес% | После смешивания |
| Удельный вес | 1,3±0,2 | После смешивания |
| Предварительное отверждение | (70 ‒ 75)°С х (35 ‒ 50) минут | Конвекционный шкаф |
| Энергия экспонирования | 110~200 мДж/см2
(на поверхности маски) |
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера |
| Окончательное отверждение | (150 ‒ 160)°С х 60 минут | Конвекционный шкаф |
| Время жизни после смешивания | 24 часа | Максимально 24 часа при 25°С в тёмном помещении |
| Срок годности | 6 месяцев | 6 месяцев (5 ‒ 25)°С в заводской упаковке в тёмном помещении |
3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка → Щёточная зачистка → Промывка водой → Сушка
Смешивание:
Перемешивать 10 ‒ 15 минут
Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в тёмном помещении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в течение 10 ‒ 20 минут
Параметры нанесения:
Сетка: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 минут
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 ‒ 20 минут при 70 ‒ 75°C
Сторона 2 20 ‒ 30 минут при 70 ‒ 75°C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
35 ‒ 50 минут при 70 ‒ 75°C
Экспонирование:
Возможно использовать установки прямого экспонирования
Спектральная чувствительность находится в диапазоне 365-405 нм
Энергия экспонирования: 110~200 мДж/см2 (на поверхности маски) 9 ‒ 12 ступень клина Штоуффера
Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32°C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25°C~28°C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При отсутствии заполненных отверстий: 150°C ‒ 160°С х 60 минут (конвекционный шкаф)
При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трёхстадийное отверждение в конвекционном шкафу)
4. ХАРАКТЕРИСТИКИ ПАЯЛЬНОЙ МАСКИ
4.1. Влияние параметров предварительной сушки
| Температура предварительной сушки, °C | 70~75 | 70~75 | 70~75 | 70~75 |
| Время предварительной сушки, минут | 40 | 50 | 60 | 70 |
| Эффект | Не влияет | Не влияет | Не влияет | Отрицательное
воздействие |
4.2. Чувствительность
| Пункт | Толщина слоя | Энергия экспонирования | Время проявления | Ступень клина Штоуффера |
| 21 ступенчатый клин Штоуффера | 25 мкм | 100 мДж/см2 | 60 секунд | 8~10 |
| 150 мДж/см2 | 9~11 | |||
| 250 мДж/см2 | 10~12 |
5. СВОЙСТВА ОТВЕРЖДЕННОГО СЛОЯ
| Пункт | Экспериментальный метод | Результат |
| Адгезия | Метод решетчатых надрезов | 100/100 |
| Твёрдость по абразивному карандашу | Эксперимент с карандашом твёрдостью 6H | Выше 6H |
| Стойкость к припою | 260 °C / 10 сек / 3 раза | Без отслоений |
| Стойкость к кислотам | Выдержка 20 минут в 10% (по объёму) в растворе H2SO4 при 25°C /
тест на отслаивание лентой |
Пройдено |
| Стойкость к щелочам | Выдержка 20 минут в 10% (по объёму) в растворе NaOH при 25°C /
тест на отслаивание лентой |
Пройдено |
| Стойкость к растворителям | Выдержка 20 минут в ацетат монометилового эфира пропиленгликоля при 25°C | Пройдено |
| Сопротивление изоляции | Тестовая структура B платы IPC-B-25 Минимум 5 х 108 Ом при постоянном
напряжении 500 Вольт |
Перед лужением:
2,3 х 1013 Ом После лужения: 2,5 х 1012 Ом |
| Сопротивление изоляции во влаге | Тестовая структура B платы IPC-B-25, температура в диапазоне 25-65°C, относительная влажность 85%, постоянное напряжение смещения 50 Вольт, постоянное тестовое напряжение 100 Вольт, в течение 3 дней для циклического процесса во влаге: Минимум 5 х 108 Ом при постоянном напряжении 500 Вольт | До воздействия влаги: 2,5 x 1013 Ом
После воздействия влаги: 2,0 x 1012 Ом |
| Горючесть | Стандарт UL 94 V | UL 94V-0 |
| Стойкость к припою | При условии: выдержка 5 минут при комнатной температуре, плавание в припое 260±5°C, в течение 10±1 сек. | Отсутствие следов припоя на маске
|
| Диэлектрическая прочность | Испытание по методике IPC-TM-650, метод 2.5.6.1, приложение постоянного напряжения 500 Вольт на маску толщиной 25 мкм | Пройдено |
| Термошок | Испытание по методике IPC-TM-650, метод 2.6.7.1: 100 циклов: ‒ 65°C / 15минут + 125°C/15 минут | Пройдено |