- ПРЕИМУЩЕСТВА:
RS-2000 W16A — это двухкомпонентная жидкая фотопроявляемая белая паяльная маска. Супербелая маска разработана для светодиодного применения, обладает отличной устойчивостью к изменению цвета под действием температуры. Маска широко используется производителями светодиодной продукции.
— Супербелая маска для светодиодных применений
— Сеткографическая печать
— Белая глянцевая поверхность
— Высокая светочувствительность
— Отличная адгезия
— Превосходная термостойкость
— Превосходная химическая стойкость и изоляция
— Отличная отражающая способность
— Отличная устойчивость к изменению цвета под действием температуры ‒ не желтеет
— Не содержит галогенов
— Совместимость с бессвинцовыми процессами
— Устойчивость к процессам химической металлизации ENIG и иммерсионного оловянирования
— Широкое технологическое окно
— Устойчивость к финишным покрытиям
— Одобрена производителями светодиодной продукции
— Соответствует директиве RoHS
2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| Пункт | Значение
спецификации |
Примечание |
| Основной компонент | RS-2000 W16A | Белый |
| Отвердитель | RS-2000 A6 | Молочно-белый |
| Соотношение смешивания | Основной компонент/ Отвердитель = 3:1 | Весовое соотношение |
| Вязкость
(в смешанном виде) |
180±30 дПа*с (25°С) | Вискозиметр VT-04F |
| Содержание твёрдых веществ | 75-80 вес% | После смешивания |
| Удельный вес | 1,4±0,2 | После смешивания |
| Коэффициент отражения при 450 нм (толщина слоя 25 мкм) | 73-78% | |
| Изменение цвета
(ИК-излучение 270°С, толщина слоя 25 мкм) |
∆Е<1 | |
| Предварительное
отверждение |
70-75°С х 35-50 минут | Конвекционный шкаф |
| Энергия экспонирования | 600-800 мДж/см2
(на поверхности маски) |
21-ступенчатый клин Штоуффера: 9-12 ступень |
| Окончательное отверждение | 150-160°С х 60 минут | Конвекционный шкаф |
| Время жизни после
смешивания |
24 часа | Максимально 24 часа при 25°С в темном помещении |
Примечание:
Вышеупомянутая отражающая способность и изменение цвета, были протестированы при толщине отвержденного слоя 25 мкм. Отражающая способность будет увеличиваться с увеличением толщины пленки.
3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка -> Щеточная зачистка -> Промывка водой -> Сушка
Смешивание:
Перемешивать 10-15 минут
Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в темном помещении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в тече-ние 10-20 минут.
Параметры нанесения:
Сетка: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 минут
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются сле-дующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 — 20 минут при 70 — 75°C
Сторона 2 15 — 25 минут при 70 — 75°C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
30 — 40 минут при 70 — 75°C
Экспонирование:
Энергия экспонирования: 600~800 мДж/см2 (на поверхности маски)
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера (21 ступень)
Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32°C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25°C~28°C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При отсутствии заполненных отверстий: 150-160°С х 60 минут (конвекционный шкаф)
При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трехстадийное отверждение в конвекционном шкафу)
4. ХАРАКТЕРИСТИКИ ПАЯЛЬНОЙ МАСКИ
4.1. Влияние параметров предварительной сушки
| Температура предварительной сушки, °C | 72 | 72 | 72 | 72 | 72 |
| Время предварительной сушки, минут | 30 | 40 | 50 | 60 | 70 |
| Эффект | Не влияет | Не
влияет |
Не
влияет |
Не
влияет |
Отрицательное
воздействие |
4.2. Чувствительность
| Пункт | Толщина слоя | Энергия экспонирования | Время проявления | Ступень клина Штоуффера |
| 21 ступенчатый клин Штоуффера | 25 мкм | 600 мДж/см2 | 60 секунд | 8-10 |
| 700 мДж/см2 | 9-11 | |||
| 800 мДж/см2 | 10-12 |
5. СВОЙСТВА ОТВЕРЖДЁННОГО СЛОЯ
| Пункт | Экспериментальный метод | Результат |
| Адгезия | Метод решетчатых надрезов | Пройдено |
| Твёрдость по абразивному карандашу | Эксперимент с карандашом твердостью 6H | Выше 6H |
| Стойкость к припою | 260-280 °C / 10 сек/3 раза | Нет шелушения |
| Стойкость к кислотам | Выдержка 20 минут в 10% (по объему) H2SO4 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
| Стойкость к щелочам | Выдержка 20 минут в 10% (по объему) NaOH 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
| Сопротивление изоляции | Тестовая структура B платы IPC-B-25 Минимум 5х 108 Ом при постоянном
напряжении 500 Вольт |
Перед лужением:
1,0 х 1012 Ом
|
| Устойчивость в
иммерсионном золоте |
Ni: 125 мкм Au:3 мкм | Пройдено |