Фотопроявляемая жидкая паяльная маска белого цвета (матовая) RS-2000 WDM

  1. ПРЕИМУЩЕСТВА:

RS-2000 WDM— двухкомпонентная жидкая паяльная маска предназначенная для сеткографической печати. Она обладает широким технологическим окном, отличной термостойкостью / стойкостью к скалыванию, отличной адгезией, отличной химической стойкостью. Паяльная маска одобрена конечными пользователями в области автомобильной промышленности.

— Разработан для автомобильной промышленности

— Сеткографическая печать

— Цвет – белый матовый

— Высокая фоточувствительность

— Отличная адгезия

— Отличная термостойкость

— Отличная химическая стойкость

— Совместимость с процессами иммерсионного золочения и оловянирования

— Совместимость с бессвинцовыми процессами

— Не содержит галогены

— Соответствует директиве RoHS

— Соответствует TS16949

— Широко одобрен конечными пользователями в области автомобильной промышленности

2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:

Пункт Значение спецификации Примечание
Основной компонент RS-2000 WDM Белый (Матовый)
Отвердитель RS-2000A6 Серовато-белый
Цвет Основной компонент: белый

Отвердитель: белый

В смешанном виде – Белый матовый
Смешивание Основной компонент/ Отвердитель — 75/25 Весовое соотношение
Вязкость

(в смешанном виде)

180±30 дПа*с (25°С) Вискозиметр VT-04F
Содержание твердых веществ 75~78 вес% После смешивания
Удельный вес 1,3±0,2 После смешивания
Предварительное отверждение (70-75)°С х (35-50) минут Конвекционный шкаф
Энергия экспонирования 400~600 мДж/см2

(на поверхности маски)

От 9 до 12 ступени клина Штоуффера
Окончательное отверждение 150-160°С х 60 минут Конвекционный шкаф
Время жизни после смешивания 24 часа Максимально 24 часа при 25 °С в темном помещении

3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка -> Щеточная зачистка -> Промывка водой -> Сушка
Смешивание:
Перемешивать 10-15 минут
Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в темном помещении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в течение 10-20 минут.
Параметры нанесения:
Сетка: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 минут
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 — 20 минут при 70 — 75°C
Сторона 2 20 — 30 минут при 70 — 75°C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
35 — 50 минут при 70 — 75°C
Экспонирование:
Энергия экспонирования: 400~600 мДж/см2 (на поверхности маски)
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера (21 ступень)
Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32°C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25°C~28°C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При отсутствии заполненных отверстий: 150-160°С х 60 минут (конвекционный шкаф)

При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трехстадийное отверждение в конвекционном шкафу)

4. ХАРАКТЕРИСТИКИ ПАЯЛЬНОЙ МАСКИ

4.1. Влияние параметров предварительной сушки

Температура предварительной сушки, °C 72 72 72 72 72
Время предварительной сушки, минут 30 40 50 60 70
Эффект Не влияет Не влияет Не влияет Не влияет Отрицательное

воздействие

4.2. Чувствительность

Пункт Толщина слоя Энергия экспонирования Время проявления Ступень клина Штоуффера
21 ступенчатый клин Штоуффера 25 мкм 400 мДж/см2 60 секунд 8-10
500 мДж/см2 9-11
600 мДж/см2 10-12

5. СВОЙСТВА ОТВЕРЖДЕННОГО СЛОЯ

Пункт Экспериментальный метод Результат
Адгезия Метод решетчатых надрезов 100/100
Твёрдость по абразивному карандашу Эксперимент с карандашом твердостью 6H Выше 6H
Стойкость к припою 260 °C / 10 сек/3 раза Нет шелушения
Стойкость к кислотам Выдержка 20 минут в 10% (по объему) H2SO4   25 °C  / тест на отслаивание лентой Пройдено
Стойкость к щелочам Выдержка 20 минут в 10% (по объему)  NaOH   25 °C  / тест на отслаивание лентой Пройдено
Стойкость к растворителям Выдержка 20 минут при 25 °C в ацетат монометилового эфира пропиленгликоля Пройдено
Сопротивление изоляции Тестовая структура B платы IPC-B-25 Минимум 5х 108 Ом при постоянном

напряжении 500 Вольт

Перед лужением:

1,0 х 1012 Ом

 

Устойчивость в иммерсионном золоте Ni: 125 мкм Au:3 мкм Пройдено