- ПРЕИМУЩЕСТВА:
RS-2000N — двухкомпонентная жидкая паяльная маска, предназначенная для сеткографической печати.
— Сеткографическая печать
— Без цвета, прозрачная
— Совместимость с процессами иммерсионного золочения и оловянирования
— Совместимость с бессвинцовыми процессами
— Соответствует или превосходит спецификации IPC SM 840-E
— Соответствует директиве RoHS
2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| Пункт | Значение спецификации | Примечание |
| Основной компонент | RS-2000N | Прозрачный, бесцветный |
| Отвердитель | RS-2000A6 | Жемчужно-белый |
| Смешивание | Основной компонент/Отвердитель — 75:25 | Весовое соотношение |
| Вязкость
(в смешанном виде) |
180±30 дПа*с (25°С) | Вискозиметр VT-04F |
| Содержание твёрдых веществ | 75~78 вес% | После смешивания |
| Удельный вес | 1,3±0,2 | После смешивания |
| Предварительное отверждение | (70-75)°С х (35-50) минут | Конвекционный шкаф |
| Энергия экспонирования | 400~600 мДж/см2
(на поверхности маски) |
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера |
| Окончательное отверждение | 150-160°С х 60 минут | Конвекционный шкаф |
| Время жизни после смешивания | 24 часа | Максимально 24 часа при 25 °С в темном помещении |
| Срок хранения | 6 месяцев | 6 месяцев в сухом, тёмном месте при Т=(25±5) ˚C с даты производства |
3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка → Щёточная зачистка → Промывка водой → Сушка
Смешивание:
10 ‒ 15 мин
Время жизни приготовленной смеси максимум 24 часа при 25°С в тёмном поме-щении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в тече-ние 10 ‒ 20 мин
Параметры нанесения:
Сетка: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 мин
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются сле-дующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 ‒ 20 мин при 70 ‒ 75 °C
Сторона 2 20 ‒ 30 мин при 70 ‒ 75 °C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следую-щие параметры сушильного шкафа:
35 ‒ 50 мин при 70 ‒ 75 °C
Экспонирование:
Энергия экспонирования: 400~600 мДж/см2 (на поверхности маски)
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера (21 ступень)
Время выдержки после экспонирования:
10~20 мин
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32 °C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25 °C~28 °C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При отсутствии заполненных отверстий: 150-160 °С х 60 минут (конвекционный шкаф)
При заполненных маской отверстиях: 80 °С х 30 мин / 110 °С х 30 мин / 160 °С х 60 мин (трёхстадийное отверждение в конвекционном шкафу)
4. ХАРАКТЕРИСТИКИ ПАЯЛЬНОЙ МАСКИ
4.1. Влияние параметров предварительной сушки
| Температура предварительной сушки, °C | 70~75 | 70~75 | 70~75 | 70~75 |
| Время предварительной сушки, мин | 40 | 50 | 60 | 70 |
| Эффект | Не влияет | Не влияет | Не влияет | Отрицательное
воздействие |
4.2. Чувствительность
| Пункт | Толщина слоя | Энергия экспонирования | Время проявления | Ступень клина Штоуффера |
| 21 ступенчатый клин Штоуффера | 25 мкм | 400 мДж/см2 | 60 секунд | 8-10 |
| 500 мДж/см2 | 9-11 | |||
| 600 мДж/см2 | 10-12 |
5. СВОЙСТВА ОТВЕРЖДЁННОГО СЛОЯ
| Пункт | Экспериментальный метод | Результат |
| Адгезия | Метод решетчатых надрезов | 100/100 |
| Твёрдость по абразивному карандашу | Эксперимент с карандашом твёрдостью 6H | Выше 6H |
| Стойкость к припою | 260 °C / 10 сек / 3 раза | Без отслоений |
| Стойкость к кислотам | Выдержка 20 минут в 10% (по объёму) H2SO4 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
| Стойкость к щелочам | Выдержка 20 минут в 10% (по объему) NaOH 25 °C / тест на отслаивание лентой | Пройдено |
| Стойкость к растворителям | Выдержка 20 минут при 25 °C в ацетат монометилового эфира пропиленгликоля | Пройдено |
| Сопротивление изоляции | Тестовая структура B платы IPC-B-25 Минимум 5 х 108 Ом при постоянном
напряжении 500 Вольт |
Перед лужением:
2,3 х 1013 Ом После лужения: 2,5 х 1012 Ом |
| Сопротивление изоляции во влаге | Тестовая структура B платы IPC-B-25, температура в диапазоне 25-65 °C, относительная влажность 85 %,
постоянное напряжение смещения 50 Вольт, постоянное тестовое напряжение 100 Вольт, в течение 3 дней для циклического процесса во влаге: Минимум 5 х 108 Ом при постоянном напряжении 500 Вольт |
До воздействия влаги: 2,5 x 1013 Ом
После воздействия влаги: 2,0 x 1012 Ом |
| Горючесть | Стандарт UL ‒ 94 V | UL 94V-0 |
| Стойкость к припою | При условии: выдержка 5 минут при
комнатной температуре, плавание в припое 260±5 °C, в течение 10±1 сек. |
Отсутствие следов припоя на маске |
| Диэлектрическая прочность | Испытание по методике IPC-TM-650, метод 2.6.6.1, приложение постоянного
напряжения 500 Вольт на маску толщиной 25 мкм |
Пройдено |
| Термошок | Испытание по методике IPC-TM-650, метод 2.6.7.1:
100 циклов: ‒ 65 °C / 15 мин / 125 °C / 15 мин |
Нет впадин, трещин и отслоений |