Фотопроявляемая жидкая паяльная маска для заполнения отверстий RS-2000 3GLPF

  1. ПРЕИМУЩЕСТВА:

RS-2000 3GLPF — двухкомпонентная жидкая паяльная маска для заполнения отверстий.

— Разработана для заполнения отверстий

— Низкая усадка, без трещин

— Превосходная термостойкость

— Совместимость с бессвинцовыми процессами

— Соответствует директиве RoHS

2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:

Пункт Значение спецификации Примечание
Основной компонент RS-2000 3GL(PF) Зелёный
Отвердитель RS-2000APF Белый
Цвет Основной компонент: зелёный

Отвердитель: белый

В смешанном виде ‒ зелёный
Смешивание Основной компонент/ Отвердитель ‒ 70/30 Весовое соотношение
Вязкость

(в смешанном виде)

250 ‒ 350 дПа*с (25°С) Вискозиметр VT-04F
Содержание твердых веществ 80~85 вес% После смешивания
Удельный вес 1,3±0,2 После смешивания
Предварительное отверждение (70 ‒ 75)°С х (35 ‒ 50) минут Конвекционный шкаф
Энергия экспонирования 300~500 мДж/см2

(на поверхности маски)

От 9 до 12 ступени клина Штоуффера
Окончательное отверждение (150 ‒ 160)°С х 60 минут Конвекционный шкаф
Время жизни после смешивания 24 часа Максимально 24 часа при 25°С в тёмном помещении
Срок годности 6 месяцев 6 месяцев (5 ‒ 25)°С                         в заводской упаковке                     в тёмном помещении

 

3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА

Подготовка поверхности:

Кислая промывка → Щёточная зачистка → Промывка водой → Сушка

Смешивание:

Перемешивать 10 ‒ 15 минут

Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в тёмном помещении

Время выдержки:

Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в течение 10 ‒ 20 минут

Параметры нанесения:

Сперва заполняются отверстия

После заполнения маска наносится на поверхность платы с помощью сетки: 36~43 нитей/см

Время выдержки после нанесения:

10~20 минут

Предварительная сушка:

Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:

Сторона 1                       15 ‒ 20 минут при 70 ‒ 75°C

Сторона 2                       15 ‒ 25 минут при 70 ‒ 75°C

Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:

30 ‒ 40 минут при 70 ‒ 75°C

Экспонирование:

Энергия экспонирования: 300~500 мДж/см2 (на поверхности маски) 9 ‒ 12 ступень клина Штоуффера

Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут

Проявление:

Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3        Температура раствора: 29~32°C

Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2                 Время проявления: 50~80 сек

Промывка: температура воды: 25°C~28°C

Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2       Время промывки: 50~60 сек

Окончательное отверждение:

При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трёхстадийное отверждение в конвекционном шкафу)