- ПРЕИМУЩЕСТВА:
RS-2000 3GLPF — двухкомпонентная жидкая паяльная маска для заполнения отверстий.
— Разработана для заполнения отверстий
— Низкая усадка, без трещин
— Превосходная термостойкость
— Совместимость с бессвинцовыми процессами
— Соответствует директиве RoHS
2. ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
Пункт | Значение спецификации | Примечание |
Основной компонент | RS-2000 3GL(PF) | Зелёный |
Отвердитель | RS-2000APF | Белый |
Цвет | Основной компонент: зелёный
Отвердитель: белый |
В смешанном виде ‒ зелёный |
Смешивание | Основной компонент/ Отвердитель ‒ 70/30 | Весовое соотношение |
Вязкость
(в смешанном виде) |
250 ‒ 350 дПа*с (25°С) | Вискозиметр VT-04F |
Содержание твердых веществ | 80~85 вес% | После смешивания |
Удельный вес | 1,3±0,2 | После смешивания |
Предварительное отверждение | (70 ‒ 75)°С х (35 ‒ 50) минут | Конвекционный шкаф |
Энергия экспонирования | 300~500 мДж/см2
(на поверхности маски) |
От 9 до 12 ступени клина Штоуффера |
Окончательное отверждение | (150 ‒ 160)°С х 60 минут | Конвекционный шкаф |
Время жизни после смешивания | 24 часа | Максимально 24 часа при 25°С в тёмном помещении |
Срок годности | 6 месяцев | 6 месяцев (5 ‒ 25)°С в заводской упаковке в тёмном помещении |
3. ПАРАМЕТРЫ ПРОЦЕССА
Подготовка поверхности:
Кислая промывка → Щёточная зачистка → Промывка водой → Сушка
Смешивание:
Перемешивать 10 ‒ 15 минут
Время жизни после смешивания 24 часа при температуре менее 25°С и хранении в тёмном помещении
Время выдержки:
Перед нанесением хорошо перемешанную маску необходимо выдержать в течение 10 ‒ 20 минут
Параметры нанесения:
Сперва заполняются отверстия
После заполнения маска наносится на поверхность платы с помощью сетки: 36~43 нитей/см
Время выдержки после нанесения:
10~20 минут
Предварительная сушка:
Для процесса одновременной сушки только с одной стороны рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
Сторона 1 15 ‒ 20 минут при 70 ‒ 75°C
Сторона 2 15 ‒ 25 минут при 70 ‒ 75°C
Для процесса одновременной сушки сразу с двух сторон рекомендуются следующие параметры сушильного шкафа:
30 ‒ 40 минут при 70 ‒ 75°C
Экспонирование:
Энергия экспонирования: 300~500 мДж/см2 (на поверхности маски) 9 ‒ 12 ступень клина Штоуффера
Время выдержки после экспонирования: 10~20 минут
Проявление:
Раствор проявления: 1,0% раствор Na2CO3 Температура раствора: 29~32°C
Давление распыления: 1,5~2,5 кг/см2 Время проявления: 50~80 сек
Промывка: температура воды: 25°C~28°C
Давление промывной воды: 1,0~1,5 кг/см2 Время промывки: 50~60 сек
Окончательное отверждение:
При заполненных маской отверстиях: 80°С х 30 минут / 110°С х 30 минут / 160°С х 60 минут (трёхстадийное отверждение в конвекционном шкафу)