Фотоплёнка Idealine RPF

Idealine RPF – фотопленка, чувствительная к красному цвету. Этот продукт специально разработан для сверхмалого времени проявления (микросекунды) в фотоплоттерах с красным неоновым лазером (633 нм) или лазерными диодами (650 ÷ 670 нм). Толщина полиэфирной основы составляет 0,175 мм.

Применение
Пленки используются для обеспечения высокого качества процессов изготовления печатных плат, химическом фрезеровании и изготовлении FPD (плоскопанельных дисплеев), а также для областей промышленного применения, требующих получения продуктов высокого качества, устойчивых к царапанию и обеспечивающих стабильность размеров при проявлении рисунка.

Характеристики
— Высокая чистота РЕТ основания
— Возможность получения рисунка порядка 10\10 мкм (проводник\зазор)
— Обеспечение стабильности качества продукции и возможность контроля ширины линии
— Превосходная стабильность размеров
— Улучшенная резкость линии и прямолинейность их кромок
— Широкий диапазон при экспонировании и проявлении также позволяют контролировать точность ширины линии
— Устойчивость к химикатам и низкий расход / затраты
— Высокая твердость по Мосу (устойчивость к царапанию)
— Оптимальное поведение при подаче / транспортировке в установках обработки фотопленок и при воздействии вакуума в рамах экспонирования.

Пример 20 мкм линий при 50800 dpi
Резкость кромок = 0.5 μм
Прямолинейность кромок = 0.7 μм
Варьирование ширины линии = ±0.25 μм

AGFA_Idealine RPF – OPF-фотопленка

 

 

 

 

 

 

 

Фотографические данные
— Чувствительность к цвету:

— RPF является чувствительной к красному цвету (630 ÷ 670 нм)

AGFA_Idealine 1

 

 

 

 

 

 

 

 

— Характерные кривые

AGFA_Idealine 2

 

 

 

 

 

 

 

 

Рабочие условия
Неактиничное освещение (фильтры):
RPF: циан (зелено-голубой свет), например, фильтр EncapSulite T20/ND.

Температура и относительная влажность должны поддерживаться в строгом соответствии допустимым значениям для сохранения стабильности размеров. Условия рабочего помещения отличаются от условий хранения, потому при перемещении из одного помещения в другое требуется определенное время для акклиматизации.

Экспонирование
Важная информация
Избегайте повреждения пленки при загрузке в плоттер. Позаботьтесь о том, чтобы листы пленки не соскальзывали друг с друга. Избегайте воздействия высокого точечного давления на пленку. Избегайте попадания пыли.
Четко следуйте инструкциям по использованию, которые поставляются изготовителем плоттера. Избегайте попадания прямого света при работе плоттера.
Вариативность процесса экспонирования зависит от типа используемого плоттера и процессора. Вы можете выполнить тестовую проверку правильности ширины линии и для получения лучшей резкости линии с Dmax.
Обработка
Пленки Idealne могут быть обработаны в автоматических проявочных машинах.
Рекомендуемые условия обработки

Проявители Pdev – G101c
Время проявления Agfaline 86 HT: 35 сек при 32 °С

Rapiline 72-3 HT: 30 сек при 35 °С

Обновление проявителя 250              мл/м2                   (50%              наполненности рисунка/»черноты»)

+ 2л в 24 часа против окисления

Фиксаж / закрепитель Pfix — G333p
Обновление закрепителя 500 мл/м2 без закрепителя электролиза, 125 мл/м2 с закрепителем электролиза (50% черноты рисунка)
Отмывка При       20°С       для       достижения       оптимальной стабильности размеров

Стабильность размеров
Сочетание полиэфирной основы с эмульсиями Idealine обеспечивают максимальную стабильность размеров.
Обратите внимание, что пленка вытягивается при повышении температуры или относительной влажности в рабочем помещении. При понижении температуры и относительной влажности будет иметь место её усадка. Оптимальная настройка температуры сушки в установке проявления обеспечит получение фотошаблонов корректных (правильных) размеров.
Следует обратить особое внимание на то, чтобы при работе с пленкой и оборудованием соблюдались корректные условия. Обращайтесь к нашим специалистам при возникновении дополнительных вопросов.

Коэффициент линейного теплового расширения Коэффициент относительной влажности
До обработки После обработки
18 µм / м°С или

0.0018 % / °С

12 µм/м %RH или

0.0012 % %RH

11 µм/м %RH или

0.0011 % %RH